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 奥地利EVG产品系列
(光刻机,键合机,涂胶显影机,清洗机)
·EVG公司简介
·EVG产品介绍
 美国TRION产品系列
(反应离子RIE刻蚀机,电感耦合等离子ICP
刻蚀机, 增强型化学气相沉积系统PECVD)
 美国KDF产品系列
 (磁控溅射台,Magnetron Sputtering
  System)
 美国BECO产品系列

(快排阀,水阀,气动阀,电磁阀,气,水枪系列)

 法国ALCATEL产品系列  
(MEMS深硅刻蚀机,低温工艺PECVD)
 
 公司介绍

  本公司自一九九五年成立以来,长期代理销售美国、欧洲著名半导体公司的设备及材料,产品广泛应用于半导体集成电路,MEMS,纳米技术,光电器件等领域的科研和生产。公司的专业技术服务工程师,为中国客户提供优质快捷的设备维修服务和技术支持。欢迎与我们联系。

 

电话:010-58891051,58891052,58891053,58891054
传真:010-58891055
电子邮箱:don@futurespeeds.com,nancy@futurespeeds.com
 
·EVG620系列光刻机具有先进的模
块化设计,使得基本系统可升级为
片盒到片盒的全自动基片传送系统,
广泛应用于科研,教学和批量生产
等各领域的应用,其先进的光学系
统也能保证很高的曝光均匀性。EV
G光刻系统在业界享有极高的赞誉。
 
·EVG101系列旋转/喷雾涂胶机,
是半导体业界开发最早,性能最
先进,集旋涂和喷涂于一体的产
品。其中喷雾涂胶功能特别适用
于深结构图形,使得深沟道的侧
壁及顶角能够均匀地涂胶;另外
的特点是节省胶的使用...
 
· TRION公司RIE/ICP(反应等离子/电感耦合等离子)刻蚀系统和PECVD(化学气相沉积系统,是专门为半导体科研开发应用而设计的。其特点是:小功率的射频电源及其匹配器,单个刻蚀真空室,手动将样片装入刻蚀真空室以及手动取出样片,灵活简单的工艺菜单编辑,可对各...
 
· KDF公司(及其前身MRC)磁控溅射台系列产品,三十年来广泛
安装在世界各大知名半导体,集成电路生产线和许多科研院所,
大学教育机构。其独特的ERPP技术,有效地提高了各种材料基片
的薄膜均匀性。“KDF FOCEST CATHODE”阴极设计方案,成功地
解决了深沟槽的覆盖问题,并极大地提高了溅射速率和靶材的有
效使用率,对于贵金属材料的靶材尤其重要。
 
 
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